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光蚀刻加工工艺是一种利用光能进行材料加工的技术，在加工过程中，通过光能的作用，使得加工材料表面的物质发生变化，从而实现精确的加工和刻蚀，这种技术广泛应用于各种行业，如电子、半导体、机械等。
蚀刻机和光刻机都是利用光蚀刻原理进行工作的设备，但它们的应用和工艺有所不同，蚀刻机主要用于金属、玻璃等材料的加工，通过化学或物理方式去除材料表面的一部分，形成所需的图案或结构，而光刻机则主要用于半导体制造领域，通过光刻技术将电路图案转移到硅片上。
虽然蚀刻机和光刻机都利用光蚀刻原理，但由于其应用领域和工艺要求的不同，它们不能相互替代，蚀刻机主要用于加工较粗糙的表面，对精度要求相对较低；而光刻机则要求极高的精度和复杂的工艺步骤，以制造高精度的半导体器件，光亮剂在光蚀刻加工过程中起到辅助作用，可以改善加工表面的质量，提高加工精度。
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